TOKIO, June 12, 2024--Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. (TOKIO: 4063) (Hauptsitz: Tokio; Präsident: Yasuhiko Saitoh; im Folgenden „Shin-Etsu Chemical") hat eine Anlage zur Herstellung von Halbleitergehäusesubstraten mit einer neuen Herstellungsmethode entwickelt, die anschließend zur Herstellung von Mikro-LED-Herstellungssystemen eingesetzt wird. Bei der Anlage handelt es sich um eine Hochleistungsbearbeitungsanlage, die mit einem Excimer-Laser arbeitet und bei der die Dual-Damascene-Methode, die auch
TOKIO, March 14, 2024--Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. (Hauptsitz: Tokio; Präsident: Yasuhiko Saitoh) hat das branchenweit erste* Siliconharz entwickelt, das ohne Emulgatoren auskommt - das wasserbasierte, schnell härtende Siliconharz "KRW-6000 Series".
TOKIO, September 05, 2023--Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. (Hauptsitz: Tokio; President: Yasuhiko Saitoh) hat festgestellt, dass das QST®-Substrat (Qromis Substrate Technology)*1 ein wesentliches Material für die gesellschaftliche Umsetzung leistungsstarker, energieeffizienter GaN-Leistungsbauelemente (Galliumnitrid) ist, deshalb will das Unternehmen die Entwicklung und Markteinführung dieser Produkte fördern.