Kurs Vortag | 36,45 |
Öffnen | 36,26 |
Gebot | 36,19 x 50000 |
Briefkurs | 36,81 x 50000 |
Tagesspanne | 36,26 - 36,26 |
52-Wochen-Spanne | 26,20 - 42,40 |
Volumen | |
Durchschn. Volumen | 26 |
Marktkap. | N/A |
Beta (5 J., monatlich) | N/A |
Kurs-Gewinn-Verhältnis (roll. Hochrechn.) | N/A |
EPS (roll. Hochrechn.) | N/A |
Bekanntgabe der Gewinne | 25. Okt. 2024 - 29. Okt. 2024 |
Erwartete Dividende & Rendite | N/A (N/A) |
Ex-Dividendendatum | N/A |
1-Jahres-Kursziel | N/A |
TOKIO, September 11, 2024--Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. (TOKYO: 4063) (Hauptsitz: Tokio; Präsident: Yasuhiko Saitoh; im Folgenden „Shin-Etsu Chemical") hat den Schrumpfschlauch aus Silikonkautschuk des Typs ST-OR für die Abdeckung von Sammelschienen entwickelt, und zwar zum ersten Mal in der Branche* .
TOKIO, September 05, 2024--Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (TOKYO: 4063) (Hauptsitz: Tokio; President: Yasuhiko Saitoh; im Folgenden „Shin-Etsu Chemical") hat ein 300-mm (12-Zoll) QSTTM-Substrat geschaffen, das ein Substrat für das epitaktische Wachstum von GaN ist, und liefert seit kurzem Proben.
TOKIO, June 12, 2024--Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. (TOKIO: 4063) (Hauptsitz: Tokio; Präsident: Yasuhiko Saitoh; im Folgenden „Shin-Etsu Chemical") hat eine Anlage zur Herstellung von Halbleitergehäusesubstraten mit einer neuen Herstellungsmethode entwickelt, die anschließend zur Herstellung von Mikro-LED-Herstellungssystemen eingesetzt wird. Bei der Anlage handelt es sich um eine Hochleistungsbearbeitungsanlage, die mit einem Excimer-Laser arbeitet und bei der die Dual-Damascene-Methode, die auch